露光とは?

みなさん はじめまして

技術部HCTチーム 入社1年目のDamienです。

今回が初めてのブログ更新となりますので自己紹介をさせてください。

名前 Damien

来歴 某高校から某大学 工学部航空宇宙学科に入学。

固体ロケットの機軸方向の音響特性の研究を行っていました。

体育会アメリカンフットボール部出身です。

今年の春にテクダイヤへ入社し技術部へ配属された社会人1年生です。

趣味 アニメ・マンガ・サッカー・ウェイトトレーニング・日本語ラップ・食べること etc...

未熟な私の 「へっぽこ技術奮闘記」 にどうぞお付き合いください。

 

さて、記念すべき第1回は私が担当している露光についてです。

 

露光工程ってなに?

簡単に言ってしまうと波長の短い遠紫外線を照射し、光が当たった部分だけのレジスト

膜を変質させてパターンの型を成形させる工程です。

露光に用いるレジストにはパターン露光された部分が現像後に無くなるポジレジストと

露光部分が残るネガレジストがあります。

レジスト?と思った方はこちらを参照ください。(レジストhttp://tecdlab.com/2017/07/2834/

 

マスク露光とマスクレス露光

 

露光装置では、フォトレジストと呼ばれる感光剤を塗布したアルミナやシリコンなどの基板上に、

焼き付けたいパターンを書き込んだマスクと呼ばれる遮光材を通じレーザー光線を照射します。

こちらが 「マスク露光」 です。図面を描き、マスクを作成すれば光線を照射するだけで続けて露光を

行うことが可能なので量産向きです。

近年では、光学技術の向上によりマスクを用いることなくレーザー光線の制御による 「マスクレス露光」が行われています。

こちらは基板ごとに異なるパターンのマスクを用意する必要がないので低コストかつ仕様変更に柔軟に

対応できるというメリットがあります。

 

TECDIAには 「マスク露光機」と 「マスクレス露光機」 の両方があります。

次回も露光について書かせていただきます!

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