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図3

スパッタ装置冷却水のスパッタレートへの影響

弊社製品の一部であるシングルレイヤーキャパシター、薄膜回路基板の薄膜製造前工程を 約9年前から海外へ製造移管を開始した時のことです。 薄膜製造には欠かせない成膜装置であるスパッタ装置の立上げ最中の出来事です。 立上げ開始時は、輸出前とほぼ同じ状態で条件が出せたのですが、成膜の回数を 重ねるうちに成膜レートが下がって行く現象が発生した。(2台移管して2台とも同じ現象発生) ... Continue Reading →