注目の ”石英ガラス基板(SiO2)パターニング技術” で社長の名刺をつくってみた

弊社の薄膜回路基板パターニング技術を応用し、現在石英ガラス基板(SiO2)へのパターニングも行っています。
今回は、石英ガラス基板の特徴と開発における課題をお話しします。

1.石英ガラス基板の特徴
2.石英ガラス基板パターニング製品の試作品について
3.開発における課題

1.石英ガラス基板の特徴

石英ガラス基板は、赤外光から紫外光まで広範囲の波長に対して高い透過率を有しています。また、Al2O3やAlNよりも誘電損失が極めて低いことが特徴としてあげられます。上記の特徴を生かし、高精度なパターニングを組み合わせることで、高周波帯で低損失を要求されるような基板に用いたり、レーザー光を透過できる基板として用いることも可能です。

 

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2.石英ガラス基板パターニング製品の試作品について

石英ガラス基板パターニング製品は、すでに複数のお客様に試作品として出荷していますが、先日試作品として、弊社社長のミニ名刺を石英ガラス基板で製作してみました。

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パターン 極小

材料:石英ガラス基板(SiO2)

チップサイズ:4.5 x 2.5 x t0.508(mm)

膜構成:Ti – Pt – Au

最小ライン幅:0.01mm

 

クオーツに、チタン・プラチナ・金で成膜したスペシャル名刺です!

(極小サイズですが)

3.開発における課題

やはり、課題は「密着性」です。Al2O3やAlNに比べて金属膜と熱膨張係数の差が大きく、また、表面粗さの数値が低いことなどが密着性に影響してきます。密着強度不足は膜剥がれを起こしてしまうため、一定以上の強度が必要となります。弊社では、自信をもってお客様にお届けできるようにより強い密着強度を追求し、条件だしや金属膜構成の見直しなども進めていく予定です。

 

試作品に関しましては、お客様との仕様確認をさせていただいたうえでご案内をしております。

ぜひ、お待ちしております!

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