ピラニア洗浄とは

ピラニア洗浄とは、ピラニア溶液、またはピラニア腐蝕液という混合液を使用した洗浄方法です。主に電子部品（回路基板）の製作に用いられているウェハーに付着した有機物を除去します。

 

出展：TECDIA HCT

ピラニア洗浄に用いられるピラニア溶液、またはピラニア腐蝕液は、濃硫酸（H₂SO₄）と過酸化水素水（H₂O₂）の混合液です。この混合液は極めて強力な酸化剤であり、ほとんどの有機物を取り除くことができる強力な溶液です。

ピラニア溶液が、様々な有機物を除去する様子が、まるで魚のピラニアがエサに群がる姿に近いことから名付けられました。

ピラニア溶液は一般的に、体積比で濃硫酸3に対して、過酸化水素水（30％）を1の割合で混合したものです。つくるときの注意事項は、混ぜるときに濃硫酸に過酸化水素水を静かに加えることです。逆の順番で混ぜると爆発の可能性があります。通常濃硫酸の希釈は水に濃硫酸を加えますが、ピラニア溶液をつくる場合は順番が逆になるので注意してください。

とても強力なピラニア溶液。由来が魚のピラニアだとは驚きですね。

高精度な回路基板を製造するテクダイヤ株式会社の回路基板製造過程にもピラニア洗浄が用いられています。洗浄力が強力な分、取り扱いには注意が必要です。

 

 

参考文献

ピラニア溶液-ウィキペディア

https://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%83%94%E3%83%A9%E3%83%8B%E3%82%A2%E6%BA%B6%E6%B6%B2

半導体基板上のフォトレジストを除去する装置および方法

https://patents.google.com/patent/JPH11174692A/ja

レジスト

露光とは

めっき

HCT(Hybrid Ceramic Technology)